Stationary surface structures formation during ion beam sputtering

The formation of stationary surface structures during ion sputtering of materials was discussed. We generalize anisotropic Bradley-Harper model and study the behavior of the system described by the stochastic Kuramoto-Sivashinsky equation with multiplicative noise caused by fluctuations in the incidence. The dynamics of the stationary surface structures formation depending on the basic system parameters reduced to the angle of incidence and the properties of the target (the penetration depth of the ion into the target) was considered. We discussed growth and roughness exponents of the sputtered surface and the dynamics of the structural defects. An influence of the internal multiplicative noise intensity on the system dynamics is studied.

I.O. Lysenko, V.O. Kharchenko, S.V. Kokhan, A.V. Dvornichenko Stationary surface structures formation during ion beam sputtering, Metallofiz. Noveishie Tekhnol. V.35, ¹ 6, p.763 (2013)

Our Team

Recent News

  • Seminar. 10.12.2015
    2015-12-09 11:24:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Харченко Д.О. ...

  • Seminar. 03.12.2015
    2015-12-02 11:24:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Харченко В.О. ...

  • Seminar. 12.11.2015
    2015-11-09 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Бистрик Юрій...

  • Seminar. 17.09.2015
    2015-09-11 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Заскока Антон...

  • Seminar. 21.05.2015
    2015-05-20 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Латишев...