Modeling of patterning at the surface during ion-beam sputtering

We study pattern formation processes in anisotropic system governed by the Kuramoto-Sivashinsky equation with multiplicative noise as a generalization of the Bradley-Harper model for ripple formation induced by ion bombardment. For both linear and nonlinear systems we study noise induced effects at ripple formation and discuss scaling behavior of the surface growth and roughness characteristics. It was found that the secondary parameters of the ion beam (beam profile and variations of an incidence angle) can crucially change the topology of patterns and the corresponding dynamics.

V.O.Kharchenko, D.O.Kharchenko, I.O.Lysenko. Modeling of ion-beam induced nano-size surface patterns in anisotropic systems. Nanotechnology Vol. 2: Synthesis and Characterization, Chapter 13, ed. by J.N.Govil, (Studium Press LLC, Houston, USA 2012) p.367.

Our Team

Recent News

  • Seminar. 10.12.2015
    2015-12-09 11:24:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Харченко Д.О. ...

  • Seminar. 03.12.2015
    2015-12-02 11:24:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Харченко В.О. ...

  • Seminar. 12.11.2015
    2015-11-09 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Бистрик Юрій...

  • Seminar. 17.09.2015
    2015-09-11 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Заскока Антон...

  • Seminar. 21.05.2015
    2015-05-20 09:29:00

    Науковий семінар зі статистичної фізики та мікроструктурних перетворень. Доповідач: Латишев...